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2025-02-11

半导体晶圆厂洁净室空气净化系统

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客户背景



该客户为国际知名半导体制造企业,其亚洲生产基地对洁净室环境要求极高。芯片生产洁净室需达到 ISO 2 级标准(≤100颗/立方米微粒),确保晶圆表面零污染,从而维持高良率。



行业痛点


  • 原有过滤器效率不足,导致晶圆表面污染,良率仅 85%

  • 停机维护频繁,影响产能和生产计划

  • 高能耗及过滤器更换成本压力大




解决方案


  1. 多层 ULPA 过滤系统


    • 过滤效率 99.9995% @ 0.1μm,满足超高洁净室要求

  2. 智能压差监控模块


    • 实时监测过滤器状态,优化维护周期

  3. 低阻力滤材设计


    • 空气阻力降低,系统能耗下降 20%




成果(升级前后对比)

指标

升级前

升级后

洁净度等级

ISO 3

ISO 1

晶圆良率

85%

97% ↑

年维护成本

$1.2M

$0.6M ↓

能耗

120 kW/h

95 kW/h ↓



客户证言

空气过滤系统升级后,我们的3nm芯片良率突破行业标杆!” ——客户生产总监



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